硅料清洗機(jī)其實(shí)就是太陽(yáng)能光伏硅片（單晶和多晶都適用）的一種清洗設(shè)備，那么他主要廣泛用于生產(chǎn)及半導(dǎo)體元器件生產(chǎn)中晶片的濕法化學(xué)工藝。該設(shè)備可有效去除晶片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性?？捎糜谕瓿蓴U(kuò)散前、光刻后、后及氧化前等工藝的清洗工作。例如：RCA清洗、SPM清洗、清洗、金屬離子及雜物去除清洗等。

硅料清洗機(jī)又分為全自動(dòng)硅料清洗機(jī)和手動(dòng)硅料清洗機(jī)

全自動(dòng)硅料清洗機(jī)的特點(diǎn)：

（1）進(jìn)口伺服驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)及機(jī)械手臂，清洗過(guò)程中無(wú)需人工操作。

（2）通過(guò)PLC實(shí)現(xiàn)控制，全部操作通過(guò)觸摸屏界面一次完成。

（3）可預(yù)先設(shè)制多條清洗工藝，可同時(shí)運(yùn)行多條工藝。

（4）自動(dòng)化程度高，適用于批量生產(chǎn)，確保清洗質(zhì)量的一致性。

（5）自動(dòng)氮?dú)夤呐菅b置可有效提高產(chǎn)品質(zhì)量，縮短清洗時(shí)間。

（6）可選裝層流凈化系統(tǒng)及自動(dòng)配酸裝置。

手動(dòng)硅料清洗機(jī)特點(diǎn)：

（1）可根據(jù)不同的清洗工藝配置各種相應(yīng)的清洗功能槽。功能槽包括：加熱酸缸、功能槽包括：加熱酸缸、HF腐蝕、BHF（HF恒溫緩沖腐蝕）、超聲清洗槽、恒溫水浴、QDR（快排沖水）、電爐等。

（2）清洗功能槽模塊化，各部分有獨(dú)立的控制單元，可隨意組合。

（3）關(guān)鍵件采用進(jìn)口部件，提高設(shè)備的可靠性及使用壽命。

（4）采用進(jìn)口耐腐蝕板材，防酸、防腐，有效避免酸液的侵蝕。

（5）控制系統(tǒng)的元器件具備防腐、防潮功能，確保安全的工作環(huán)境。

（6）結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，造型美觀、實(shí)用。

（7）操作符合人機(jī)工程原理，具有良好的操作界面，使用方便、靈活。

（8）閉式清洗，有效改善工作環(huán)境，保障操作人員安全。