2012年5月我公司開始研制雙面刷洗機(jī)。早期的濕法清洗不僅不能清除半導(dǎo)體晶片表面的亞微米粒子，而且對(duì)片子表面的破壞作用極為嚴(yán)重。而雙面刷洗機(jī)對(duì)清除亞微米粒子非常有效，而且不破壞硅片表面，清洗效果最好。本公司已在2012年12月成功研制出該設(shè)備并順利投入清洗市場(chǎng)。